ساخت تراشه هایی 5000 برابر نازک تر از تار موی انسان - موسیقی با امیر

به گزارش موسیقی با امیر، یک فناوری جدید لیتوگرافی از طریق اشعه ماوراء بنفش(EUV) ساختن تراشه های پنج هزار برابر نازک تر از یک تار موی انسان را ممکن می سازد و برنامه هایی مانند رانندگی خودران، شبکه 5G، هوش مصنوعی و سایر نوآوری های آینده را بهبود می بخشد.

به گزارش موسیقی با امیر و به نقل از آی ای، بیش از 20 سال کار فشرده مشترک طول کشید، اما انتها شرکت ها و موسسات تحقیقاتی اروپایی به یک فناوری انقلابی جدید برای فراوری انبوه ریزتراشه های قدرتمند ارائه داده اند که توسط کسانی که در این تجارت هستند، لیتوگرافی EUV نامیده می گردد.

EUV مخفف extreme ultraviolet به معنای اشعه ماوراء بنفش شدید است و امکان فراوری میکروچیپ ها یا ریزتراشه های بسیار قدرتمندتر، کم مصرف تر و مقرون به صرفه تر از گذشته را فراهم می نماید.

این فرآیند فراوریی جدید در مقایسه با فرآیندهای لیتوگرافی نوری پیشرو که تا به امروز با منابع نوری با طول موج 193 نانومتر کار شده اند، تنها با طول موج 13.5 نانومتر کار می نماید. این فناوری چشمگیر، شاهد معرفی تراشه های 5000 بار نازک تر از یک تار موی انسان است.

شرکت های ASML و TRUMPF یک منبع نوری منحصر به فرد را برای این پروژه طراحی نموده اند که متشکل از یک منبع پلاسمایی است که توسط شرکت ASML ساخته شده است و در آن، 50 هزار قطره قلع(روی) در هر ثانیه به یک محفظه خلاء شلیک می شوند و سپس توسط دو پالس متوالی از یک لیزر کربن دی اکسید با قدرت بالا فراوری شده توسط شرکت TRUMPF مورد اصابت قرار می گیرند.

دکتر مارکوس وبر از شرکای این پروژه در بیانیه مطبوعاتی در خصوص این فناوری جدید می گوید: فناوری EUV به عنوان یک نوآوری عظیم همچنان امکان پیشرفت عمده در دیجیتالی سازی تجارت و جامعه را فراهم می نماید.

این فناوری برنده جایزه نوآوری Deutscher Zukunftspreis 2020 شده است.

پروفسور ریموند نوگبائر مدیر این پروژه می گوید: ما به محققان شرکت های ZEISS، TRUMPF و Fraunhofer IOF برای کسب این جایزه عالی تبریک می گوییم. در لیتوگرافی EUV، آنها یک فناوری را توسعه داده اند که دیجیتالی سازی را در سطح جهانی فراهم می نماید و با این کار پایه و اساس نوآوری های بعدی را پی ریزی می نمایند.

لیتوگرافی از طریق اشعه ماوراء بنفش یکی از روش های تصویرگیری پرتوافکنی است که از اشعه ای با طول موج بین 13.4 تا 13.5 نانومتر استفاده می نماید. اصول اولیه کارکرد آن شبیه به روش لیتوگرافی نوری با یک سیستم و ماسک است که موج را تابانده و متمرکز می نماید. لیتوگرافی پرتوافکنی نوری بیش از 20 سال از اصلی ترین راه های فراوری قطعات نیمه هادی بوده است. از مدت ها قبل پیش بینی شده بود که لیتوگرافی پرتوافکنی نوری، ظرفیت فراوری قطعات با هزینه مالی مناسب را دارد.

در لیتوگرافی پرتوافکنی از ماسک و ماده مقاوم به پرتو استفاده می گردد که ماده مقاوم به پرتو ماده ای پلیمری است و در مقابل پرتوی تابیده شده به دو صورت از خود رفتار نشان می دهد. یا ماده پلیمری در اثر پرتو نگاری شبکه آن تقویت می گردد که در این حالت ماده مقاوم را منفی(Negative) می نامیم و اگر ماده پلیمری پس از تابش پرتو شبکه آن استحکام خود را از دست بدهد در این حالت ماده مقاوم به پرتو را مثبت(Positive) می نامیم.